Современные технологии полупроводников становятся важнейшим драйвером для мировой экономики. Особенно это касается процессов литографии, которые непосредственно влияют на производительность и качество чипов. Новость о сотрудничестве ASML и Carl Zeiss в разработке литографических машин с разрешением 5 нм свидетельствует об амбициозных планах по улучшению технологий, необходимых для обеспечения роста промышленности в будущем.

ASML, являющаяся одним из мировых лидеров в разработке оборудования для литографии, совместно с Zeiss стремится создать Hyper NA литографическую систему. Текущая система TWINSCAN EXE:5000 уже использует технологию High NA с разрешением 8 нм, при этом новая гипер-оптическая система обещает значительно повысить производительность, предоставляя возможность сокращения числа процессов экспонирования и улучшения качества литографических изображений. В частности, увеличение числа аберраций, связанных с более высоким числом наибольшего угла (NA), может привести к получению более точных и мелких деталей на чипах.

Хотя Jos Benschop пока не смог озвучить даты выхода новых машин, уже очевидно, что это является стратегическим шагом для удовлетворения потребностей индустрии, прогнозируемых на ближайшие десятилетия. Особенно учитывая, что новая система с разрешением 5 нм будет актуальна не только для текущих задач, но и для потребностей, которые возникнут к 2035 году и далее. Таким образом, надежности и возможности этих технологий напрямую связаны с дальнейшим развитием таких областей, как искусственный интеллект, вычислительные технологии и автономные системы.

Завершая, стоит отметить, что постоянное развитие литографических технологий будет иметь долгосрочные последствия для всего сектора высоких технологий. Поскольку устройства становятся всё более сложными, единственный вопрос, который остается открытым — успеет ли индустрия адаптироваться к новым достижениям перед возникновением новых требований?